台积电技术核心人物罗唯仁带着2nm核心机密转投Intel：实际助力有限潜在影响深远

11月20日有消息称，台积电任职21年的资深员工罗唯仁在退休后转投老东家英特尔，这一消息引发了外界关注，同时还被曝出其在退休前就获取了大量先进工艺相关资料。

据报道，罗唯仁在退休前曾凭借其高层主管的职权，要求下属准备简报，并复印了大量包含2纳米、A16、A14纳米等先进制造技术的机密资料。

罗唯仁在台积电任职21年，自2004年起直至今年7月退休。尽管已年届75岁，但他积累的丰富经验与掌握的关键资料仍具有重要价值。因此，不少人担忧他此次的职业变动将给台积电带来重大损失，可能导致美国公司获取台积电的核心机密——而这恰恰是台积电最核心的竞争优势所在。

不过美国Tom’s Hardware网站给出了相反的判断，认为即便罗唯仁加入台积电，也不会对Intel产生太大帮助，原因在于两家公司的技术路径存在差异——Intel已实现18A工艺的量产，而这与台积电的2nm工艺在技术层面有诸多不同之处。

无论是图案成形技术还是背部供电方案，两家公司在技术路线的选择上存在诸多差异，无法直接照搬套用，所以罗唯仁在台积电所积累的技术经验，对Intel来说几乎没有实际价值。

罗唯仁加入Intel后，或许能为其带来台积电的管理模式——从研发到生产环节，台积电都有值得借鉴的成功经验，这对于增强Intel的竞争力而言也颇具意义。

尽管技术层面的助力有限，但罗唯仁跳槽至Intel这一举动的影响却不容小觑。此事或许会让半导体行业对挖角行为提高警惕，其影响范围不仅限于单个企业，甚至可能引发全行业的连锁反应，预计未来行业内将出台更为严格的合规制度与人才流动相关政策。