单台售价突破28亿元大关超级EUV光刻机成Intel致胜关键：使用方式极为奢华

1月4日消息，下周举办的CES展会期间，Intel预计将正式发布Panther Lake处理器，该产品是采用18A工艺量产的首款消费级处理器。

18A工艺堪称Intel近年来最关键的一次技术升级，其重要性无出其右。该工艺采用了RibbonFET晶体管与PowerVia背部供电技术，能够有效降低芯片的功耗水平，同时助力芯片运行频率的提升。

18A工艺已经在Intel位于亚利桑那州的Fab 52工厂量产，达产时月产能将达到4万片晶圆，良率表现据说也达到了预期。

Intel在10月安排了一场工厂参观活动，开放了Fab 52工厂供外界探访，同时也展示了其先进的EUV光刻机；不过关于18A工艺，目前仍有不少技术细节未对外披露，推测该工艺很可能会采用下一代High NA EUV光刻机作为核心竞争优势。

High NA型作为当前EUV光刻机的下一代产品，核心在于将NA指标从0.33提高至0.55，这一升级能进一步增强光刻分辨率，不过其成本增幅也相当显著——单台售价高达4亿美元，换算成人民币约28亿元，相比当前EUV光刻机1.5到2亿美元的价格，翻倍还不止。

Intel在EUV光刻机领域处于落后地位，所以将High NA EUV看作工艺逆袭的契机，早几年便公开宣布成为High NA EUV的首个客户，根据Intel这两年披露的信息推测，他们至少购置了3台High NA EUV光刻机。

不过也有说法称，Intel包揽了ASML这几年High NA EUV的产能，数量大概有6到7台，这可真是相当“壕”气了——毕竟台积电和三星并没有计划在第一时间就抢购High NA EUV光刻机。

Intel斥巨资采购High NA EUV究竟有何用途？此前他们曾提及会在下一代14A工艺中应用该光刻技术，不过14A工艺的工厂尚未开建，当前最多处于试验开发阶段。

根据Intel自己公布的信息，其每个季度利用High NA EUV技术生产的晶圆数量已超过3万片，换算下来每月产能达1万片。要知道，1万片的月产能对于实际量产的工厂而言都不算低，而Intel目前还处于技术研发阶段就投入如此规模的生产，这无疑是相当烧钱且奢侈的做法。

这不太合理，那High NA EUV光刻机可能还有一种用途，就是现在的18A工艺上已经秘密使用了这种光刻机，但Intel不打算宣传也不打算公布。

推测Intel的考量是将High NA EUV打造为18A工艺未对外公开的核心优势，以此出其不意地应对竞争对手，从而延续自身在High NA EUV技术领域的领先地位。